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0235024.pdf.jpgEstudio de la cinetica de electrones y quimica del plasma de diversas descargas usadas para SiO2 a bajas temperaturasMendoza Gonzalez, Lourdes1996
0780500.pdf.jpgSíntesis y caracterización de películas delgadas de ZnO:Li tipo-p depositadas por la técnica de rocío pirolítico ultrasónicoMarqués Ortiz, Diego2018
0306293.pdf.jpgEl papel del hidrogeno en las propiedades fisicas de peliculas de Si O2 depositadas por RPECVDVazquez Arreguin, Roberto2002
0320258.pdf.jpgEstudio sobre los mecanismos de reduccion de la constante dielectrica de peliculas delgadas de dióxido de silicio impurificadas con fluorDíaz Bucio, Xochitl Monica2003
0139255.pdf.jpgPreparacion de peliculas de nitruro de silicio por PECVD y su caracterizacion electricaEspinosa Mendoza, Martin1990
279049.pdf.jpgPreparacion de peliculas delgadas de SIO2 con altas tasas de deposito, mediante la tecnica de deposito de vapores quimicos asistido por un plasma remoto inductivoRamirez Vargas, Sergio Julio1999
263654.pdf.jpgSintesis y propiedades de peliculas delgadas de carburo de estaño depositadas por plasmaPerez Arellano, Ricardo1998
287453.pdf.jpgCaracterizacion de estructuras electroluminiscentes elaboradas por rocio piroliticoMonroy Flores, Ernesto2001
0694216.pdf.jpgCrecimiento y caracterización de películas delgadas obtenidas por rocío pirolítico ultrasónicoPeña Leal, José Juan2013
0724608.pdf.jpgPreparación y estudio del funcionamiento de sensores de gas de hidrógeno, con películas delgadas de óxido de zinc impurificadas con aluminioCruz Mata, Omar Francisco2015

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