Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica

Archivos

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Fecha de publicación

Autores

Pichardo Pedrero, Ernesto

Asesores

Alonso Huitrón, Juan Carlos

Colecciones

Tesis de maestría

Institución

Universidad Nacional Autónoma de México

Escuela o Facultad

Instituto de Investigaciones en Materiales

Área del conocimiento

Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías
Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud

Título o grado

Maestría en Ciencias (Ciencia de Materiales)

Fuente

URI

https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000296748

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