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TESIUNAM
Tesis de maestría
Fabricación y caracterización de microtransistores transparentes de películas ultradelgadas de ZnO tipo n depositadas por la técnica de ablación láser
Fabricación y caracterización de microtransistores transparentes de películas ultradelgadas de ZnO tipo n depositadas por la técnica de ablación láser
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0824777.pdf
(18.11 MB)
Fecha de publicación
2022
Autores
Valdés Noguerón, Citlalli Montserrat
Asesores
Cruz Hernández, Wencel José de la
Título de la revista
ISSN de la revista
Título del volumen
Editor
Colecciones
Tesis de maestría
Resumen
Descripción
Institución
Universidad Nacional Autónoma de México
Escuela o Facultad
Programa de Maestría y Doctorado en Ciencia e Ingeniería de Materiales
Centro de Nanociencias y Nanotecnología
Área del conocimiento
Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías
Título o grado
Maestría en Ciencia e Ingeniería de Materiales
Palabras clave
Citación
Fuente
TESIUNAM
URI
https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000824777
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