Use el DOI o este identificador para enlazar este recurso: https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000625760
Clasificación : 001-50521-P3-2007
Sustentante: Paredes Godinez, Cesar
Otros sustentantes : Velasco Huitron, Esmeralda
Asesor(es) : Mendoza Serna, Roberto
Título : Influencia de los precursores de silicio : Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(OCH3)3CH3, en la distribucion del tamaño de poro de solidos SiO2-Al2O3-TiO2 Y SiO2-ZrO2-TiO2
Fecha de publicación : 2007
Páginas: 1 recurso en línea (III, 97 páginas) :
Formato: application/pdf
Medio: computadora
Soporte: recurso en línea
Grado : Ingeniero Químico
Escuela o Facultad : Facultad de Estudios Superiores Zaragoza
Institución : Universidad Nacional Autónoma de México
Palabras clave : Óxido de aluminio
Area del conocimiento : Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud
Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías
URI : https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000625760
Fuente TESIUNAM: http://132.248.9.195/pd2008/0625760/Index.html
Aparece en las colecciones: Tesis de licenciatura

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