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https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000296748| Clasificación : | 001-00347-P1-2001-1 |
| Sustentante: | Pichardo Pedrero, Ernesto |
| Asesor(es) : | Alonso Huitrón, Juan Carlos |
| Título : | Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica |
| Fecha de publicación : | 2001 |
| Páginas: | 1 recurso en línea (164 páginas en varias paginaciones) |
| Formato: | application/pdf |
| Medio: | computadora |
| Soporte: | recurso en línea |
| Grado : | Maestría en Ciencias (Ciencia de Materiales) |
| Escuela o Facultad : | Instituto de Investigaciones en Materiales |
| Institución : | Universidad Nacional Autónoma de México |
| Area del conocimiento : | Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías |
| URI : | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000296748 |
| Fuente TESIUNAM: | http://132.248.9.195/pd2001/296748/Index.html |
| Aparece en las colecciones: | Tesis de maestría |
Texto completo:
| Archivo | Descripción | Tamaño | Formato | |
|---|---|---|---|---|
| 000296748.mrc | Registro bibliográfico en formato MARC | 1.23 kB | MARC | Visualizar/Abrir |
| 296748.pdf | Texto Completo | 4.58 MB | Adobe PDF |  Visualizar/Abrir |
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