Use el DOI o este identificador para enlazar este recurso: https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000147830
Clasificación : 001-00382-A1-1991-1
Sustentante: Alonso Huitrón, Juan Carlos
Asesor(es) : Falcony Guajardo, Ciro
Muhl Saunders, Stephen
Título : Dióxido de silicio depositado por plasma a partir de una nueva mezcla de gases
Fecha de publicación : 1991
Páginas: 1 recurso en línea (222 páginas)
Formato: application/pdf
Medio: computadora
Soporte: recurso en línea
Grado : Doctorado en Ciencias (Física)
Escuela o Facultad : Facultad de Ciencias
Institución : Universidad Nacional Autónoma de México
Palabras clave : Gel de sílice
Area del conocimiento : Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías
URI : https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000147830
Fuente TESIUNAM: http://132.248.9.195/ppt1997/0147830/Index.html
Aparece en las colecciones: Tesis de doctorado

Texto completo:
Archivo Descripción Tamaño Formato  
000147830.mrcRegistro bibliográfico en formato MARC1.28 kBMARCVisualizar/Abrir
0147830.pdfTexto Completo5.07 MBAdobe PDFVista previa
Visualizar/Abrir


Este recurso está sujeto a una Licencia Creative Commons Creative Commons