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https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000802484| Sustentante: | León Guillén, Rodrigo |
| Asesor(es) : | Rodríguez Gómez, Arturo |
| Título : | Estudio de la influencia de CH4 y H2 en la estructura y fotoluminiscencia de películas delgadas de carburo de silicio depositadas mediante la técnica de vapores químicos asistida por plasma remoto |
| Fecha de publicación : | 2020 |
| Páginas: | 1 recurso en línea (53 páginas) : |
| Formato: | application/pdf |
| Medio: | computadora |
| Soporte: | recurso en línea |
| Grado : | Maestría en Ciencia e Ingeniería de Materiales |
| Escuela o Facultad : | Programa de Maestría y Doctorado en Ciencia e Ingeniería de Materiales Instituto de Investigaciones en Materiales |
| Institución : | Universidad Nacional Autónoma de México |
| Area del conocimiento : | Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías |
| URI : | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000802484 |
| Fuente TESIUNAM: | http://132.248.9.195/ptd2020/agosto/0802484/Index.html |
| Aparece en las colecciones: | Tesis de maestría |
Texto completo:
| Archivo | Descripción | Tamaño | Formato | |
|---|---|---|---|---|
| 000802484.mrc | Registro bibliográfico en formato MARC | 1.67 kB | MARC | Visualizar/Abrir |
| 0802484.pdf | Texto Completo | 1.98 MB | Adobe PDF |  Visualizar/Abrir |
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