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https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000669858
Clasificación : | 001-00347-R2-2011 |
Sustentante: | Reséndiz López, Eder |
Asesor(es) : | Cheang Wong, Juan Carlos |
Título : | Desarrollo de mascaras para litografía a partir de monocapas de partículas coloidales de sílice |
Fecha de publicación : | 2011 |
Páginas: | 1 recurso en línea (57 páginas) : |
Formato: | application/pdf |
Medio: | computadora |
Soporte: | recurso en línea |
Grado : | Maestría en Ciencia e Ingeniería de Materiales |
Escuela o Facultad : | Facultad de Ingeniería |
Institución : | Universidad Nacional Autónoma de México |
Area del conocimiento : | Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías |
URI : | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000669858 |
Fuente TESIUNAM: | http://132.248.9.195/ptb2011/junio/0669858/Index.html |
Aparece en las colecciones: | Tesis de maestría |
Texto completo:
Archivo | Descripción | Tamaño | Formato | |
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000669858.mrc | Registro bibliográfico en formato MARC | 1.19 kB | MARC | Visualizar/Abrir |
0669858_A1.pdf | Texto Completo | 11.28 MB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |
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