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https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000625760| Clasificación : | 001-50521-P3-2007 |
| Sustentante: | Paredes Godinez, Cesar Velasco Huitron, Esmeralda |
| Asesor(es) : | Mendoza Serna, Roberto |
| Título : | Influencia de los precursores de silicio : Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(OCH3)3CH3, en la distribucion del tamaño de poro de solidos SiO2-Al2O3-TiO2 Y SiO2-ZrO2-TiO2 |
| Fecha de publicación : | 2007 |
| Páginas: | 1 recurso en línea (III, 97 páginas) |
| Formato: | application/pdf |
| Medio: | computadora |
| Soporte: | recurso en línea |
| Grado : | Ingeniero Químico |
| Escuela o Facultad : | Facultad de Estudios Superiores Zaragoza |
| Institución : | Universidad Nacional Autónoma de México |
| Palabras clave : | Óxido de aluminio |
| Area del conocimiento : | Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías |
| URI : | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000625760 |
| Fuente TESIUNAM: | https://tesiunam.dgb.unam.mx/F?current_base=TES01&func=direct&doc_number=000625760 |
| Aparece en las colecciones: | Tesis de licenciatura |
Texto completo:
| Archivo | Descripción | Tamaño | Formato | |
|---|---|---|---|---|
| 000625760.mrc | Registro bibliográfico en formato MARC | 1.33 kB | MARC | Visualizar/Abrir |
| 0625760.pdf | Texto Completo | 3.39 MB | Adobe PDF |  Visualizar/Abrir |
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