Use el DOI o este identificador para enlazar este recurso: https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000279049
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Campo DC Valor Lengua/Idioma
dc.contributor.advisorAlonso Huitrón, Juan Carlos
dc.creatorRamirez Vargas, Sergio Julio
dc.date.created2005-10-04T00:00:00-
dc.date.issued1999
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000279049-
dc.format.extent1 recurso en línea (II, 52 páginas)-
dc.format.mediumcomputadora
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.languagespa-
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.source.urihttps://tesiunam.dgb.unam.mx/F?current_base=TES01&func=direct&doc_number=000279049
dc.subjectVapores
dc.subject.classificationCiencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías
dc.titlePreparacion de peliculas delgadas de SIO2 con altas tasas de deposito, mediante la tecnica de deposito de vapores quimicos asistido por un plasma remoto inductivo
dc.typeTesis de licenciatura
dcterms.contributorAlonso Huitrón, Juan Carlos::si::SinIdentificador::role::asesorTesis
dcterms.creatorRamirez Vargas, Sergio Julio::si::SinIdentificador
dc.degree.nameLicenciatura en Física
dc.degree.grantorUniversidad Nacional Autónoma de México
dc.identifier.urlhttp://132.248.9.195/pd1999/279049/Index.html
dc.format.supportrecurso en línea
dc.degree.departmentFacultad de Ciencias
dc.identifier.classification001-00323-R2-1999-1
dc.degree.levelLicenciatura
dc.rights.accessrightsAcceso en línea sin restricciones
dc.type.versionpublishedVersion
dc.publisher.locationMX
dc.date.modified2023-11-25T00:00:00-
Aparece en las colecciones: Tesis de licenciatura

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