Use el DOI o este identificador para enlazar este recurso: https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000235024
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Campo DC Valor Lengua/Idioma
dc.contributor.advisorAlonso Huitrón, Juan Carlos
dc.creatorMendoza Gonzalez, Lourdes
dc.date.created2005-12-22T00:00:00-
dc.date.issued1996
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000235024-
dc.format.extent1 recurso en línea (III, 121 páginas)
dc.format.mediumcomputadora
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.languagespa-
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.source.urihttps://tesiunam.dgb.unam.mx/F?current_base=TES01&func=direct&doc_number=000235024
dc.subjectCinética química
dc.subject.classificationCiencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías
dc.titleEstudio de la cinetica de electrones y quimica del plasma de diversas descargas usadas para SiO2 a bajas temperaturas
dc.typeTesis de licenciatura
dcterms.contributorAlonso Huitrón, Juan Carlos::si::SinIdentificador::role::asesorTesis
dcterms.creatorMendoza Gonzalez, Lourdes::si::SinIdentificador
dc.degree.nameLicenciatura en Física
dc.degree.grantorUniversidad Nacional Autónoma de México
dc.identifier.urlhttp://132.248.9.195/ppt1997/0235024/Index.html
dc.format.supportrecurso en línea
dc.degree.departmentFacultad de Ciencias
dc.identifier.classification001-00323-M1-1996-2
dc.degree.levelLicenciatura
dc.rights.accessrightsAcceso en línea sin restricciones
dc.type.versionpublishedVersion
dc.publisher.locationMX
dc.date.modified2023-11-25T00:00:00-
Aparece en las colecciones: Tesis de licenciatura

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